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真空烘烤除氣裝置

作者：華宇分公司時(shí)間：2022-12-23點(diǎn)擊：4309次

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該設(shè)備與大型微波源對(duì)接，可以完成微波在空間不同高度環(huán)境中相關(guān)實(shí)驗(yàn)?？梢詫?shí)現(xiàn)某一高度、不同濕度、不同溫度下的環(huán)境模擬實(shí)驗(yàn)。依據(jù)這套設(shè)備組建成了我國(guó)第一個(gè)HPM大氣等離子體實(shí)驗(yàn)室。


產(chǎn)品參數(shù)

序號(hào)

項(xiàng)目

技術(shù)參數(shù)

1

真空容器尺寸

Φ1800mm×2700mm（L）

2

真空度

1×105Pa～1×10-2 Pa

3

溫度范圍

熱沉溫度在-60℃～40℃范圍內(nèi)可調(diào)，控制點(diǎn)

4

控制精度

±1℃

5

濕度指標(biāo)

在15℃～40℃范圍內(nèi)，壓力從2000 Pa～大氣壓，水蒸汽在此壓力范圍內(nèi)分壓控制精確優(yōu)于±10%